一種低電阻率氧化鈮摻鈮濺射旋轉(zhuǎn)靶材及其制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201510180790.0 申請日 -
公開（公告）號 CN104831243B 公開（公告）日 2018-08-14
申請公布號 CN104831243B 申請公布日 2018-08-14
分類號 C23C14/34;C22C29/12;C23C4/06;C23C4/134 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 羅永春;曾墩風(fēng);張斐;王志強(qiáng) 申請（專利權(quán)）人 廈門映日新材料科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 廈門市精誠新創(chuàng)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 蕪湖映日科技有限公司
地址 241000 安徽省蕪湖市蕪湖經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)汽經(jīng)一路5號1-005
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種低電阻率氧化鈮摻鈮濺射旋轉(zhuǎn)靶材及其制備方法。所述靶材由97.5?99.5重量％NbOx和0.4?2.4重量％Nb，余下為雜質(zhì)組成；其中0.05＜X＜2.5；優(yōu)選2＜X＜2.5。制備時，先進(jìn)行不銹鋼背管的制備；然后混粉，烘干，真空等離子噴涂和機(jī)械加工得到。采用本發(fā)明的配方，并引進(jìn)新的生產(chǎn)工藝，得到的產(chǎn)品電阻率更低，而且透過率更高，極大的提高了產(chǎn)品性能。透過率主要和下游鍍膜廠家設(shè)計的膜厚度和膜組成結(jié)構(gòu)有關(guān)系，靶材致密度高，可以使得鍍膜時在同等厚度下的膜透過率較高?？蓮V泛用于觸摸屏、光學(xué)玻璃鍍膜、TFT等領(lǐng)域，對行業(yè)的進(jìn)步有極大的推動作用。