顆粒體系多物理場觀測實(shí)驗(yàn)平臺(tái)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202022575055.9 申請日 -
公開(公告)號(hào) CN214277798U 公開(公告)日 2021-09-24
申請公布號(hào) CN214277798U 申請公布日 2021-09-24
分類號(hào) G01N15/00(2006.01)I 分類 測量;測試;
發(fā)明人 遲福東;王頔;馬剛;曹學(xué)興;周偉;梁倫勛;常曉林;譚彬 申請(專利權(quán))人 華能瀾滄江水電股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 武漢科皓知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 代理人 俞琳娟
地址 650214云南省昆明市官渡區(qū)世紀(jì)城中路1號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型提供了一種顆粒體系多物理場觀測實(shí)驗(yàn)平臺(tái),能夠?qū)崿F(xiàn)復(fù)雜應(yīng)力、應(yīng)變路徑下的顆粒接觸力多物理場測量,它包括:兩塊加載板與兩塊固定板,多個(gè)銷釘連接件,和透明底板;動(dòng)力加載模塊;紅外測距模塊,設(shè)置在裝樣模塊上,用于監(jiān)測加載板的移動(dòng)距離,進(jìn)而獲取顆粒試樣加載后的應(yīng)變狀態(tài);壓力傳感模塊,設(shè)置在裝樣模塊上、與動(dòng)力加載模塊相對(duì)應(yīng)的位置處,用于監(jiān)測加載板壓力;陣列攝像模塊,設(shè)置在裝樣模塊上方;光源模塊,設(shè)置在裝樣模塊下方,提供光源;檢偏模塊,包括:可拆卸地設(shè)置在裝樣模塊和光源模塊之間的第一檢偏鏡,和可拆卸地設(shè)置在陣列攝像模塊和裝樣模塊之間的第二檢偏鏡;以及聲發(fā)射監(jiān)測模塊,可拆卸地設(shè)置在裝樣模塊上。