等離子弧光氮化涂層復(fù)合設(shè)備及氮化涂層連續(xù)工藝
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN201010101101.X | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN102134706A | 公開(公告)日 | 2011-07-27 |
| 申請公布號 | CN102134706A | 申請公布日 | 2011-07-27 |
| 分類號 | C23C14/54(2006.01)I;C23C8/36(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 于寶海;于傳躍;盛重春;陳子宇 | 申請(專利權(quán))人 | 沈陽華俄科技發(fā)展有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 沈陽科威專利代理有限責(zé)任公司 | 代理人 | 王勇 |
| 地址 | 110165 遼寧省沈陽市沈北新區(qū)輝山經(jīng)濟開發(fā)區(qū)輝山大街123-1號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明提供了一種等離子弧光氮化涂層復(fù)合設(shè)備及氮化涂層連續(xù)工藝,所要解決的問題是:輝光離子氮化的工件表面有輕微氧化且氮化時間長,會影響超硬膜的結(jié)合力和涂層質(zhì)量,加工時間延長。本發(fā)明的要點是:等離子弧光氮化裝置的陰極筒設(shè)置在真空室的上面,且與真空室連通,聚焦線圈設(shè)置在陰極筒的外面,氣體混合室的出口和熱絲伸入陰極筒里,等離子弧光電源上的轉(zhuǎn)換開關(guān)的陽極和陰極分別接在真空室壁和陰極筒上,轉(zhuǎn)換開關(guān)的另一陰極接在涂層裝置的陰極弧光靶上。本發(fā)明的效果是:氮化涂層連續(xù)進行,降低成本。 |





