一種用于實施化學氣相沉積過程的設備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201410093122.X 申請日 -
公開（公告）號 CN103834931B 公開（公告）日 2017-01-11
申請公布號 CN103834931B 申請公布日 2017-01-11
分類號 C23C16/455(2006.01)I;C23C16/34(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 阿久津·仲男;陳皓;汪英杰 申請（專利權(quán)）人 華延芯光（北京）科技有限公司
代理機構(gòu) 北京權(quán)泰知識產(chǎn)權(quán)代理事務所（普通合伙） 代理人 內(nèi)蒙古華延芯光科技有限公司
地址 內(nèi)蒙古自治區(qū)鄂爾多斯市杭錦旗錫尼鎮(zhèn)阿斯爾西街北地稅小區(qū)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種用于實施化學氣相沉積過程的設備，其中最關鍵的反應器主體2包括：加熱腔51、密封腔52和反應腔53；其中加熱腔51中具有加熱器13、中空軸7、通氣法蘭15，其中所述通氣法蘭15固定在反應器底板23上；其中密封腔52由反應器底板23、加熱腔側(cè)壁14、密封腔壁521和密封腔頂板522所圍成；其中反應腔53由反應器底板23、密封腔側(cè)壁521、反應腔側(cè)壁531、氣流通道上蓋10、密封腔頂板522、加熱腔頂蓋11以及中空軸7上部的外翻平板7?4所圍成，其特征在于，所述加熱腔頂蓋11能夠在所述中空軸7的帶動下旋轉(zhuǎn)，且所述加熱腔側(cè)壁14能與所述加熱腔頂蓋11同步旋轉(zhuǎn)。