一種LDMOSFET、制備方法及芯片和電路
基本信息

| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202210159448.2 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)(公告)號(hào) | CN114220846A | 公開(kāi)(公告)日 | 2022-03-22 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN114220846A | 申請(qǐng)公布日 | 2022-03-22 |
| 分類(lèi)號(hào) | H01L29/06(2006.01)I;H01L29/78(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I | 分類(lèi) | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 余山;趙東艷;王于波;陳燕寧;付振;劉芳;王凱;吳波;鄧永峰;劉倩倩;郁文 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人 | 北京芯可鑒科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京潤(rùn)平知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 陳瀟瀟 |
| 地址 | 102200北京市昌平區(qū)雙營(yíng)西路79號(hào)院中科云谷園11號(hào)樓一層 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明實(shí)施例提供一種LDMOSFET、制備方法及芯片和電路,所述LDMOSFET包括:襯底,所述襯底上設(shè)有埋層;所述埋層上方設(shè)有外延層;所述外延層上方設(shè)有N型阱;所述N型阱上方依次設(shè)有第一P型體區(qū)、N型漂移區(qū)和第二P型體區(qū);所述N型漂移區(qū)的中間設(shè)有間隙,所述間隙的深度小于所述N型漂移區(qū)的深度。所述LDMOSFET不僅有效的縮小了器件的尺寸,還大大提升了器件的性能。 |





