一種用于光纖寫柵整形的裝置
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202022700555.0 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN214225477U | 公開(公告)日 | 2021-09-17 |
| 申請公布號 | CN214225477U | 申請公布日 | 2021-09-17 |
| 分類號 | G02B6/02(2006.01)I | 分類 | 光學; |
| 發(fā)明人 | 陳震;覃路曼;劉壯;宋立;張心賁 | 申請(專利權(quán))人 | 長飛(武漢)光系統(tǒng)股份有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 湖北天領(lǐng)艾匹律師事務所 | 代理人 | 楊建軍 |
| 地址 | 430000湖北省武漢市洪山區(qū)關(guān)山二路四號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本實用新型涉及光纖激光器領(lǐng)域,具體為一種用于光纖寫柵整形的裝置,包括激光器和光纖,所述激光器發(fā)射出的紫外光經(jīng)過擴束鏡擴束后變?yōu)闇手惫馐ㄟ^光闌整型成圓形光束,再經(jīng)過切趾板切趾整型,最后由平凸的柱面鏡聚焦光束,通過均勻相位的掩膜板對光纖紫外定點曝光;所述切趾板中心設(shè)有四個角倒角過的菱形開孔。本實用新型能很好地去除的光柵反射譜兩側(cè)的旁瓣,同時保持光柵帶寬在0.5±0.1nm,使之滿足980泵浦光纖光柵的指標要求。這樣的開孔切趾能夠使得圖譜變成一個完美的高斯圖形,邊模抑制比能達到15以上,用一次曝光的方法,減少二次曝光時間。 |





