一種用于光柵刻寫的激光擴束準直裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202022885373.5 申請日 -
公開（公告）號 CN214311133U 公開（公告）日 2021-09-28
申請公布號 CN214311133U 申請公布日 2021-09-28
分類號 G02B27/09（2006.01）I;G02B27/30（2006.01）I;G02B7/02（2021.01）I;G02B7/182（2021.01）I;G02B5/18（2006.01）I 分類 光學;
發(fā)明人 劉峰;宋立;張心賁 申請（專利權）人 長飛（武漢）光系統(tǒng)股份有限公司
代理機構 湖北天領艾匹律師事務所 代理人 楊建軍
地址 430000湖北省武漢市洪山區(qū)關山二路四號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種用于光柵刻寫的激光擴束準直裝置，包括底座、Z軸升降系統(tǒng)和滑軌模塊系統(tǒng)。本發(fā)明能夠通過Z軸升降系統(tǒng)和滑軌模塊系統(tǒng)實現(xiàn)對包括高斯光斑在內(nèi)的激光光束整形的效果，用以得到可以用于刻寫光柵的均勻光斑。本實用新型可以有效控制寫柵所需激光的能量分布及形狀大小，使得所刻寫的光柵達到所需指標并不損傷包層，同時提高邊模抑制比。