一種用于多晶硅生產(chǎn)中的63對(duì)棒還原爐底盤

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202021867941.2 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN213231540U 公開（公告）日 2021-05-18
申請(qǐng)公布號(hào) CN213231540U 申請(qǐng)公布日 2021-05-18
分類號(hào) C01B33/021 分類 無(wú)機(jī)化學(xué);
發(fā)明人 晏濤;唐文東;庹如剛;劉斌 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 四川永祥新能源有限公司
代理機(jī)構(gòu) 成都天嘉專利事務(wù)所（普通合伙） 代理人 向丹
地址 614800 四川省樂山市五通橋區(qū)龍翔路999號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種用于多晶硅生產(chǎn)中的63對(duì)棒還原爐底盤，屬于多晶硅生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。包括底盤本體及63對(duì)硅棒，63對(duì)硅棒分列為六道呈圓環(huán)狀設(shè)置在底盤本體上，形成六圈硅棒環(huán)；底盤本體圓心處設(shè)置有中心尾氣出口，第六硅棒環(huán)與還原爐爐筒內(nèi)壁之間設(shè)置有呈均勻分布的外圍尾氣出口；還包括設(shè)置在六圈硅棒環(huán)中的四圈進(jìn)氣噴嘴環(huán)，任意一圈進(jìn)氣噴嘴環(huán)上的進(jìn)氣噴嘴呈均勻分布；中心尾氣出口、硅棒對(duì)、進(jìn)氣噴嘴及外圍尾氣出口之間于底盤本體上呈六等分設(shè)置，形成六個(gè)夾角為60°的扇形區(qū)，六個(gè)扇形區(qū)的邊沿形成六個(gè)氣流通道。本技術(shù)方案有效保證氣場(chǎng)的均勻性，實(shí)現(xiàn)氣相沉積爐內(nèi)氣場(chǎng)控制指標(biāo)的穩(wěn)定性，并提高有效產(chǎn)量。