一種自動密封的反應爐

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202122371952.2 申請日 -
公開（公告）號 CN215800054U 公開（公告）日 2022-02-11
申請公布號 CN215800054U 申請公布日 2022-02-11
分類號 C30B35/00（2006.01）I;C30B29/36（2006.01）I 分類 晶體生長〔3〕;
發(fā)明人 張健;龐茂鑫;程望;陳一棟;李桂凱 申請（專利權(quán)）人 山東天岳先進科技股份有限公司
代理機構(gòu) 北京君慧知識產(chǎn)權(quán)代理事務所（普通合伙） 代理人 馮妙娜
地址 250118山東省濟南市槐蔭區(qū)天岳南路99號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請公開了一種自動密封的反應爐，屬于半導體材料制備技術(shù)領(lǐng)域。該反應爐包括爐體和爐體下蓋，所述爐體下蓋密封蓋合所述爐體底部的進料口；升降機構(gòu)，所述升降機構(gòu)用于支撐爐體下蓋，所述升降機構(gòu)上升或下降以帶動所述爐體下蓋上升或下降；密封機構(gòu)，所述密封機構(gòu)包括設置在爐體下方的鎖緊壓輪，所述升降機構(gòu)上升以帶動所述爐體下蓋上升至與爐體密封位置，所述鎖緊壓輪與所述爐體下蓋下端面接觸，以推動所述爐體下蓋和所述爐體密封。該反應爐結(jié)構(gòu)簡單，可自動化進行裝卸，提高工作效率，可用于大規(guī)模自動化生產(chǎn)半導體材料。