一種循環(huán)冷卻系統(tǒng)及長(zhǎng)晶爐
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202111397595.5 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN114086245A | 公開（公告）日 | 2022-02-25 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN114086245A | 申請(qǐng)公布日 | 2022-02-25 |
| 分類號(hào) | C30B23/00（2006.01）I;C30B29/36（2006.01）I | 分類 | 晶體生長(zhǎng)〔3〕; |
| 發(fā)明人 | 李帥;劉家朋;潘亞妮;邵紅;李碩;石志強(qiáng) | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 山東天岳先進(jìn)科技股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京君慧知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 劉曉佳 |
| 地址 | 250118山東省濟(jì)南市槐蔭區(qū)天岳南路99號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申請(qǐng)公開了一種循環(huán)冷卻系統(tǒng)及長(zhǎng)晶爐，尤其涉及一種用于碳化硅生長(zhǎng)的循環(huán)冷卻系統(tǒng)及長(zhǎng)晶爐，所述循環(huán)冷卻系統(tǒng)包括：循環(huán)管路；冷卻組件，所述冷卻組件包括冷卻腔、緩沖腔、第一冷卻介質(zhì)、第二冷卻介質(zhì)和第三冷卻介質(zhì)，所述緩沖腔及待冷卻件分別與所述循環(huán)管路相連，且所述循環(huán)管路、緩沖腔與所述待冷卻件共同形成閉合回路，所述冷卻腔與所述緩沖腔能夠相連通；所述第一冷卻介質(zhì)在所述冷卻腔內(nèi)將所述第二冷卻介質(zhì)冷卻，冷卻后的第二冷卻介質(zhì)繼續(xù)將所述第三冷卻介質(zhì)冷卻，所述第三冷卻介質(zhì)在所述閉合回路之間循環(huán)，以將所述待冷卻件導(dǎo)熱體冷卻。該循環(huán)冷卻系統(tǒng)能夠保證熱量的均勻傳遞，其用于長(zhǎng)晶爐中，有利于保持長(zhǎng)晶爐中的熱場(chǎng)穩(wěn)定，可以提高長(zhǎng)晶質(zhì)量。 |
