濕法清洗設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202120138079.X 申請日 -
公開（公告）號 CN214099596U 公開（公告）日 2021-08-31
申請公布號 CN214099596U 申請公布日 2021-08-31
分類號 H01L21/67（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 吳鎬碩;樸靈緒 申請（專利權(quán)）人 蘇州恩騰半導(dǎo)體科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海光華專利事務(wù)所（普通合伙） 代理人 余明偉
地址 215024江蘇省蘇州市蘇州工業(yè)園區(qū)金雞湖大道99號蘇州納米城西北區(qū)02棟703室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型提供一種濕法清洗設(shè)備，所述濕法清洗設(shè)備包括去離子水清洗槽及過濾裝置，所述過濾裝置通過液體管路連接于去離子水供應(yīng)源及所述去離子水清洗槽之間，用于將所述去離子水供應(yīng)源供應(yīng)的去離子水經(jīng)過濾后輸送至所述去離子水清洗槽。本實(shí)用新型的濕法清洗設(shè)備經(jīng)改善的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，在去離子水輸送至清洗槽的液體管路上設(shè)置過濾裝置以有效過濾去離子水中的金屬顆粒等雜質(zhì)，有助于提高濕法清洗品質(zhì)。在進(jìn)一步的示例中還設(shè)置兩套過濾單元，一套在用一套備用，有利于提高設(shè)備的穩(wěn)定性和設(shè)備產(chǎn)出率。