具有改善金屬污染功能的濕法刻蝕設備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202120411904.9 申請日 -
公開（公告）號 CN214226880U 公開（公告）日 2021-09-17
申請公布號 CN214226880U 申請公布日 2021-09-17
分類號 H01L21/67（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 吳鎬碩;樸靈緒 申請（專利權）人 蘇州恩騰半導體科技有限公司
代理機構 上海光華專利事務所（普通合伙） 代理人 余明偉
地址 215024江蘇省蘇州市蘇州工業(yè)園區(qū)金雞湖大道99號蘇州納米城西北區(qū)02棟703室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型提供了一種具有改善金屬污染功能的濕法刻蝕設備，包括：腐蝕槽，其內部具有承載腐蝕液及待清洗件的空間；螯合劑供給單元，其包括螯合劑源；定量供給單元，其包括具有輸入端和輸出端的定量供給槽；所述輸入端連接所述螯合劑供給單元，所述輸出端連接所述腐蝕槽，所述定量供給槽將所述輸入端流入的螯合劑從所述輸出端處定量供給至所述腐蝕槽。本實用新型經(jīng)改善的結構設計，提供螯合劑以去除堿溶液中的污染金屬離子，通過定量供給單元確保對腐蝕槽定量供給螯合劑，大幅降低了腐蝕工藝對于堿溶液的高純度要求，降低了生產(chǎn)成本，提升了產(chǎn)品良率。