具有顆粒監(jiān)測(cè)功能的去離子水清洗設(shè)備

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202023058996.1 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN214441364U 公開（公告）日 2021-10-22
申請(qǐng)公布號(hào) CN214441364U 申請(qǐng)公布日 2021-10-22
分類號(hào) B08B3/08;B08B3/00;B08B13/00;G01N15/10;H01L21/67 分類 清潔;
發(fā)明人 吳鎬碩;樸靈緒 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 蘇州恩騰半導(dǎo)體科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海光華專利事務(wù)所（普通合伙） 代理人 余明偉
地址 215024 江蘇省蘇州市蘇州工業(yè)園區(qū)金雞湖大道99號(hào)蘇州納米城西北區(qū)02棟703室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型提供一種具有顆粒監(jiān)測(cè)功能的去離子水清洗設(shè)備，包括去離子水清洗槽、補(bǔ)給管路、顆粒監(jiān)測(cè)裝置、控制裝置及報(bào)警裝置；去離子水清洗槽用于承載去離子水及待清洗件；補(bǔ)給管路一端與去離子水清洗槽相連通，另一端與去離子水源相連接；顆粒監(jiān)測(cè)裝置位于補(bǔ)給管路上且與去離子水清洗槽相鄰；控制裝置與顆粒監(jiān)測(cè)裝置及報(bào)警裝置相連接，以當(dāng)顆粒監(jiān)測(cè)裝置監(jiān)測(cè)到去離子水中的顆粒數(shù)量超過預(yù)設(shè)值時(shí)產(chǎn)生報(bào)警信息。本實(shí)用新型經(jīng)改善的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，對(duì)進(jìn)入清洗槽內(nèi)的去離子水進(jìn)行實(shí)時(shí)在線監(jiān)測(cè)，并在監(jiān)測(cè)到去離子水中的顆粒污染物超標(biāo)時(shí)產(chǎn)生報(bào)警信息以提醒工作人員采取應(yīng)對(duì)措施，避免因去離子水的污染導(dǎo)致晶圓的污染，有助于提高晶圓清洗質(zhì)量。