一種高阻抗膜及其制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201911243381.5 申請日 -
公開（公告）號 CN110885967A 公開（公告）日 2020-03-17
申請公布號 CN110885967A 申請公布日 2020-03-17
分類號 C23C14/35;C23C14/08 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 夏偉;張兵;鄭建軍;張成金;姚仕軍;方添志;趙帥 申請（專利權）人 天津美泰真空技術有限公司
代理機構 天津合正知識產(chǎn)權代理有限公司 代理人 天津美泰真空技術有限公司
地址 301609 天津市靜海區(qū)大豐堆鎮(zhèn)靳莊子村南200米
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種高阻抗膜的制備方法，該方法包括如下步驟：采用磁控濺射法在玻璃基板上鍍膜，所用靶材為含銦復合材料，濺射室的壓強抽到1.5?3.5×10?3Pa，工作氣體為氬氣，濺射壓強為0.3?1.0Pa。本發(fā)明所述的高阻抗膜具有較高的表面電阻值、較好的防靜電效果和較好的抗干擾效果。