一種外延爐供氣裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201921368527.4 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN210826439U | 公開（公告）日 | 2020-06-23 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN210826439U | 申請(qǐng)公布日 | 2020-06-23 |
| 分類號(hào) | C30B25/14(2006.01)I;C30B29/36(2006.01)I | 分類 | - |
| 發(fā)明人 | 孔令沂;韓景瑞;梁土欽;孫國(guó)勝;鄧菁;李錫光 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 廣東天域半導(dǎo)體股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 廣東莞信律師事務(wù)所 | 代理人 | 東莞市天域半導(dǎo)體科技有限公司 |
| 地址 | 523000廣東省東莞市松山湖北部工業(yè)城工業(yè)北一路5號(hào)二樓辦公樓 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型公開了一種外延爐供氣裝置，包括多根進(jìn)氣管和一導(dǎo)氣組件，所述導(dǎo)氣組件的進(jìn)氣端通過多個(gè)進(jìn)氣孔與多根所述進(jìn)氣管對(duì)應(yīng)對(duì)接，所述導(dǎo)氣組件的出氣端設(shè)有多組分散孔，每個(gè)所述進(jìn)氣孔通過一空腔與對(duì)應(yīng)的一組所述分散孔連通，形成多條間隔的進(jìn)氣通道。本實(shí)用新型通過控制氣體的分散性，使晶片表面的反應(yīng)區(qū)域邊緣氣體分布均勻，進(jìn)而顯著提高外延片產(chǎn)品的邊緣結(jié)晶質(zhì)量，并可提高整體的指標(biāo)均勻性，顯著增加外延片的可用面積。?? |
