顯影設(shè)備用清洗劑及其使用方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201210562896.3 申請日 -
公開（公告）號 CN103046061B 公開（公告）日 2015-02-25
申請公布號 CN103046061B 申請公布日 2015-02-25
分類號 C23G1/02(2006.01)I;C23G1/06(2006.01)I;G03F7/30(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 李煜;王翔 申請（專利權(quán)）人 黃山金瑞泰科技股份有限公司
代理機構(gòu) 合肥誠興知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 黃山金瑞泰科技有限公司;黃山金瑞泰科技股份有限公司
地址 245700 安徽省黃山市黃山區(qū)安徽黃山工業(yè)園區(qū)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種顯影設(shè)備用清洗劑，包括5～30重量份的主劑和3～15重量份的輔劑，所述的主劑為氨基磺酸、磺基水楊酸、檸檬酸、磷酸、乙醇酸中的一種或幾種構(gòu)成，所述的輔劑為草酸、氟化氫銨、順丁烯二酸酐、聚乙烯磷酸中一種或幾種構(gòu)成。通過將上述重量比的主劑和輔劑混合構(gòu)成的清洗劑配置成清洗液對顯影設(shè)備的進(jìn)行清洗，在保證對顯影設(shè)備內(nèi)結(jié)垢和結(jié)晶物有效清洗除去的同時，降低清洗時清洗液對顯影設(shè)備的腐蝕速率，保護(hù)顯影設(shè)備，延長顯影設(shè)備的使用壽命。