一種半導(dǎo)體器件和熱沉鍵合的方法
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202110894124.9 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN113345809A | 公開(公告)日 | 2021-09-03 |
| 申請公布號 | CN113345809A | 申請公布日 | 2021-09-03 |
| 分類號 | H01L21/50(2006.01)I;H01L23/373(2006.01)I;B23K1/00(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 楊國文;王希敏 | 申請(專利權(quán))人 | 度亙核芯光電技術(shù)(蘇州)有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) | 代理人 | 張洋 |
| 地址 | 215000江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)金雞湖大道99號西北區(qū)20幢215、217室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本申請?zhí)峁┮环N半導(dǎo)體器件和熱沉鍵合的方法,涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域,包括襯底上形成外延層;外延層形成至少一個(gè)電流注入?yún)^(qū)和位于電流注入?yún)^(qū)兩側(cè)的非電流注入?yún)^(qū),電流注入?yún)^(qū)和非電流注入?yún)^(qū)之間形成有隔離區(qū);外延層上形成金屬層,金屬層覆蓋電流注入?yún)^(qū)、非電流注入?yún)^(qū)和隔離區(qū);金屬層上形成多個(gè)導(dǎo)電導(dǎo)熱結(jié)構(gòu),相鄰導(dǎo)電導(dǎo)熱結(jié)構(gòu)之間有間隙,每個(gè)非電流注入?yún)^(qū)上都設(shè)有多個(gè)導(dǎo)電導(dǎo)熱結(jié)構(gòu);多個(gè)導(dǎo)電導(dǎo)熱結(jié)構(gòu)上形成焊接層,焊接層覆蓋導(dǎo)電導(dǎo)熱結(jié)構(gòu)、間隙和金屬層;焊接熱沉和焊接層。導(dǎo)電導(dǎo)熱結(jié)構(gòu)保證電流注入?yún)^(qū)不受力,焊接熱沉?xí)r,減少焊接應(yīng)力集聚;金屬層和導(dǎo)電導(dǎo)熱結(jié)構(gòu)的形成,減小熱沉和半導(dǎo)體器件焊接應(yīng)力,減少或避免焊接使半導(dǎo)體器件局部扭曲。 |





