光罩組及晶圓標注方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202210135132.X 申請日 -
公開（公告）號 CN114185244A 公開（公告）日 2022-03-15
申請公布號 CN114185244A 申請公布日 2022-03-15
分類號 G03F1/38（2012.01）I 分類 攝影術；電影術；利用了光波以外其他波的類似技術；電記錄術；全息攝影術〔4〕;
發(fā)明人 張弓玉帛;徐圣強;袁立春 申請（專利權）人 紹興中芯集成電路制造股份有限公司
代理機構 上海思微知識產(chǎn)權代理事務所（普通合伙） 代理人 曹廷廷
地址 312000浙江省紹興市皋埠鎮(zhèn)臨江路518號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種光罩組及晶圓標注方法，該光罩組具有第一光罩和第二光罩，第一光罩具有多個第一晶粒圖形區(qū)，第一晶粒圖形區(qū)中設有第一標識，各個第一晶粒圖形區(qū)的第一標識均相同，第二光罩設置有多個與第一光罩上的第一晶粒圖形區(qū)一一對應的第二晶粒圖形區(qū)，各個第二晶粒圖形區(qū)均包括相同的身份標識區(qū)，身份標識區(qū)中設有與晶圓上各個曝光區(qū)域一一對應且互不相同的第二標識。利用第一光罩和第二光罩的先后曝光以及相應的光刻套刻對準偏差，能夠為晶圓上每顆晶粒都標注上與之相配的曝光區(qū)域的身份標識或者晶粒自己的唯一身份標識，由此使得每一顆晶粒從晶圓上切割下來后仍然能被識別出其原先在晶圓的哪個曝光區(qū)域或者哪個位置坐標。