一種高效率量子點光學基片及其制備方法
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202210670891.6 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN114755861A | 公開(公告)日 | 2022-07-15 |
| 申請公布號 | CN114755861A | 申請公布日 | 2022-07-15 |
| 分類號 | G02F1/13357(2006.01)I;B32B27/32(2006.01)I;B32B27/30(2006.01)I;B32B27/36(2006.01)I;B32B27/34(2006.01)I;B32B27/18(2006.01)I;B32B27/20(2006.01)I;B32B27/08(2006.01)I;B32B27/06(2006.01)I | 分類 | 光學; |
| 發(fā)明人 | 陳錦全;周道全 | 申請(專利權)人 | 廣東歐迪明光電科技股份有限公司 |
| 代理機構 | 上海微策知識產權代理事務所(普通合伙) | 代理人 | - |
| 地址 | 526238廣東省肇慶市高新區(qū)古塘北路7號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明涉及光致發(fā)光領域,尤其涉及一種高效率量子點光學基片及其制備方法。光學基片的結構由下至上包括:光輸入層,第一色譜層,散射層,第二色譜層和光輸出層;第一色譜層和第二色譜層中包含量子點熒光微粒;所述量子點熒光微粒為紅光量子點、綠光量子點、藍光量子點、紫光量子點中的任一種。本發(fā)明制備的光學基片具有優(yōu)異的量子點光學基片光轉換效率,特別是在相同QD?G濃度條件下較大幅度提高QD?G的外量子效率,克服了現有量子點器件光譜轉換效率較低的技術難點,并且同時具有良好防腐蝕性以及力學性能,適宜在光致發(fā)光領域推廣,具有廣闊的發(fā)展前景。 |





