一種還原爐的多管式進(jìn)料系統(tǒng)
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202021559530.7 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN213141422U | 公開（公告）日 | 2021-05-07 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN213141422U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-05-07 |
| 分類號(hào) | C01B33/03(2006.01)I | 分類 | - |
| 發(fā)明人 | 賈琳蔚;朱彬;陳彬;陳紹林;楊楠;李壽琴;劉逸楓;甘居富 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 云南通威高純晶硅有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 成都天嘉專利事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 向丹 |
| 地址 | 678100云南省保山市工貿(mào)園區(qū)昌寧園中園 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型涉及一種還原爐的多管式進(jìn)料系統(tǒng)，屬于多晶硅生產(chǎn)中進(jìn)料控制技術(shù)領(lǐng)域。包括與氣化氯硅烷和氫氣供料總管連接的至少兩個(gè)進(jìn)料主管，進(jìn)料主管上均設(shè)置閥門和多個(gè)進(jìn)料支管，閥門設(shè)置在氣化氯硅烷和氫氣供料總管與進(jìn)料支管之間；還原爐中底盤上設(shè)置至少兩組噴嘴，每組噴嘴之間呈間隔且均勻分布設(shè)置；進(jìn)料主管的數(shù)量與噴嘴組數(shù)相等，每組噴嘴通過進(jìn)料支管與對(duì)應(yīng)進(jìn)料主管連通。根據(jù)不同階段的需料量，進(jìn)行進(jìn)料控制，解決噴嘴供料不均勻等問題；并使得在不同的進(jìn)料量下維持噴嘴噴射的高度，解決爐內(nèi)頂部流動(dòng)性差、相對(duì)死區(qū)等問題，進(jìn)而降低疏松、呈珊瑚狀等非致密氣相沉積的現(xiàn)象，有效提高硅料品質(zhì)而不犧牲電耗的目的。?? |
