一種磁控濺射可鋼化單銀LOW-E 玻璃及制備該玻璃的方法
基本信息

| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201110348504.9 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)(公告)號(hào) | CN102503175B | 公開(kāi)(公告)日 | 2013-08-21 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN102503175B | 申請(qǐng)公布日 | 2013-08-21 |
| 分類號(hào) | C03C17/36(2006.01)I | 分類 | 玻璃;礦棉或渣棉; |
| 發(fā)明人 | 林改 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 中山市格蘭特實(shí)業(yè)有限公司火炬分公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 中山市科創(chuàng)專利代理有限公司 | 代理人 | 謝自安 |
| 地址 | 528400 廣東省中山市火炬開(kāi)發(fā)區(qū)火炬大道13號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)了一種磁控濺射可鋼化單銀LOW-E玻璃,包括有玻璃基片,其特征在于:在玻璃基片的復(fù)合面上由內(nèi)到外依次相鄰地磁控濺射有九個(gè)膜層,其中第一膜層即最內(nèi)層為Si3N4層,第二層為TiO2層,第三層為CrNx層,第四層為ZnO層,第五層為Ag層,第六層為CrNxOy層,第七層為ZnSn3O4層,第八層為TiO2層,最外層為Si3N4Oy層。本發(fā)明目的是克服了現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種透過(guò)率高,鍍膜層與玻璃基材的結(jié)合力強(qiáng)、鍍膜層致密、均勻的磁控濺射可鋼化單銀LOW-E玻璃,本發(fā)明還提供一種磁控濺射法制備可鋼化單銀LOW-E玻璃的方法。 |





