利用溫度循環(huán)法提高GaN基LED器件工作壽命的方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201410227596.9 申請日 -
公開（公告）號 CN103972336A 公開（公告）日 2014-08-06
申請公布號 CN103972336A 申請公布日 2014-08-06
分類號 H01L33/00(2010.01)I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 邵春林;汪英杰 申請（專利權）人 內(nèi)蒙古華延芯光科技有限公司
代理機構 北京權泰知識產(chǎn)權代理事務所（普通合伙） 代理人 華延芯光（北京）科技有限公司;內(nèi)蒙古華延芯光科技有限公司
地址 100176 北京市大興區(qū)宏達北路12號A813室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種利用溫度循環(huán)法提高GaN基LED器件工作壽命的方法，包括以下步驟：A.在基底1上采用低溫氣相沉積技術生長GaN緩沖層2，其中所述低溫是500℃；B.采用高溫氣相沉積技術在所述GaN緩沖層2上生長GaN半導體層3，其中所述高溫是1050℃；C.對所述GaN半導體層3進行至少一次溫度循環(huán)處理，其中每一次溫度循環(huán)中將溫度從1050℃降到500℃,再升溫到1055℃，然后降溫到1050℃；D.在經(jīng)過溫度循環(huán)處理后的GaN半導體層3上，繼續(xù)生長后續(xù)的其它各層。經(jīng)過本發(fā)明的方法得到的半導體器件，晶體的位錯密度減少，LED器件的發(fā)光工作壽命延長。