一種過流式殺菌裝置
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | 2020202101811 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN212387764U | 公開（公告）日 | 2021-01-22 |
| 申請公布號 | CN212387764U | 申請公布日 | 2021-01-22 |
| 分類號 | C02F1/32(2006.01)I | 分類 | 水、廢水、污水或污泥的處理; |
| 發(fā)明人 | 劉煉;黎朝進;胡棟;乜輝;段穎穎;廖俊宇 | 申請（專利權(quán)）人 | 重慶四聯(lián)光電科技有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 上海光華專利事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 尹麗云 |
| 地址 | 400707重慶市北碚區(qū)蔡家崗?fù)趼?9號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實用新型提供一種過流式殺菌裝置，包括有流體管，具有第一端部和沿軸向延伸的第二端部，流體管設(shè)有從第一端部到第二端部的第一流路，待殺菌流體在第一流路中流動；光源，靠近流體管的第一端部設(shè)置，光源從第一端部向第一流路照射紫外光；散熱室，靠近光源設(shè)置，散熱室設(shè)有第二流路，散熱流體在第二流路中流動。本實用新型在流體管中設(shè)置有第一流路，保證待殺菌流體能夠在流體管內(nèi)穩(wěn)定流動；同時光源容納于光源室中，通過光源提供紫外光，利用紫外光的殺菌特性，能夠?qū)α黧w管中的待殺菌流體進行殺菌；并在散熱室中設(shè)置用于降低光源溫度的第二流路，通過散熱流體在第二流路中流動帶走光源的熱量，從而降低光源的溫度。?? |
