一種提高電子材料印刷平整度的后處理方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201110436280.7 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN102529479B | 公開(kāi)（公告）日 | 2014-10-08 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN102529479B | 申請(qǐng)公布日 | 2014-10-08 |
| 分類號(hào) | B05D3/00(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I;B41M7/00(2006.01)I;B41J2/01(2006.01)I | 分類 | 一般噴射或霧化；對(duì)表面涂覆液體或其他流體的一般方法〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 林劍;陳征;崔錚 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 蘇州納方科技發(fā)展有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京華夏博通專利事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 中國(guó)科學(xué)院蘇州納米技術(shù)與納米仿生研究所 |
| 地址 | 215000 江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)獨(dú)墅湖高教區(qū)若水路398號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明涉及一種對(duì)噴墨打印在襯底上的電子材料液膜進(jìn)行低溫干燥處理，減少或去除液膜中的溶劑部分，其中低溫干燥處理的溫度范圍為零下5℃以下，泛指通過(guò)降溫措施抑制油墨流動(dòng)性的去除溶劑部分工藝，處理期間所述溶劑部分的為固態(tài)或液態(tài)。并且該低溫干燥處理僅去除液膜中的部分溶劑，且去除的部分溶劑比例滿足標(biāo)準(zhǔn)成膜質(zhì)量。實(shí)施本發(fā)明后處理工藝的效果顯著，簡(jiǎn)言之即為通過(guò)低溫干燥處理，可在現(xiàn)有的電子油墨和打印工藝的基礎(chǔ)上有效消除或減少噴墨打印所制備電子薄膜中的凹凸不平現(xiàn)象，有利于印刷電子產(chǎn)品質(zhì)量的提高。? |
