一種真空滅弧室結構

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202022548825.0 申請日 -
公開（公告）號 CN213519732U 公開（公告）日 2021-06-22
申請公布號 CN213519732U 申請公布日 2021-06-22
分類號 H01H33/662（2006.01）I;H01H33/664（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 畢冬麗;李春香 申請（專利權）人 陜西寶光真空電器股份有限公司
代理機構 北京品源專利代理有限公司 代理人 胡彬
地址 721016陜西省寶雞市渭濱區(qū)寶光路53號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型涉及電氣設備，公開了一種真空滅弧室結構。真空滅弧室結構包括絕緣外殼、屏蔽筒、靜導電桿以及動導電桿，屏蔽筒的兩端分別連接于兩個絕緣外殼，絕緣外殼與屏蔽筒之間形成真空腔，靜導電桿和動導電桿穿設于真空腔并能夠相互抵接，以在真空腔內形成電場，本實用新型還包括第一屏蔽環(huán)組件和第二屏蔽環(huán)組件，第一屏蔽環(huán)組件設置于真空腔內并連接于一個絕緣外殼內壁，靜導電桿穿設于第一屏蔽環(huán)組件，第二屏蔽環(huán)組件設置于真空腔內并連接于另一個絕緣外殼內壁，動導電桿穿設于第二屏蔽環(huán)組件，第一屏蔽環(huán)組件和第二屏蔽環(huán)組件共同用于均衡真空腔內電場。