用于氣態(tài)氟化氫刻蝕二氧化硅的刻蝕腔體及其刻蝕系統(tǒng)
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201410354793.7 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN104103561B | 公開（公告）日 | 2016-08-24 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN104103561B | 申請(qǐng)公布日 | 2016-08-24 |
| 分類號(hào) | H01L21/67(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 龐克儉;江西元;邵蘇予;劉勝偉 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 河北省再擔(dān)保有限責(zé)任公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 石家莊國為知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所 | 代理人 | 河北神通光電科技有限公司 |
| 地址 | 050227 河北省石家莊市鹿泉經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)昌盛大街21號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種用于氣態(tài)氟化氫刻蝕二氧化硅的刻蝕腔體及其系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括：刻蝕腔體、氣體產(chǎn)生裝置和控制系統(tǒng)，氣體產(chǎn)生裝置用于將產(chǎn)生的刻蝕氣體、氮?dú)夂鸵掖細(xì)怏w進(jìn)行混合輸入到刻蝕腔體內(nèi)，所述刻蝕腔體上設(shè)有進(jìn)氣口和出氣口，刻蝕腔體內(nèi)設(shè)有旋轉(zhuǎn)平臺(tái)、加熱器和氣體勻流裝置，進(jìn)入刻蝕腔體的混合氣體通過氣體勻流裝置進(jìn)行充分混合，旋轉(zhuǎn)平臺(tái)上放置有待刻蝕的半導(dǎo)體器件，控制系統(tǒng)控制氣體產(chǎn)生裝置產(chǎn)生混合氣體，混合氣體在刻蝕腔體內(nèi)充分混合，控制系統(tǒng)控制旋轉(zhuǎn)平臺(tái)轉(zhuǎn)動(dòng)并控制加熱器進(jìn)行加熱。 |
