一種UTG-QD型MINI-LED板及其應(yīng)用、制備方法和光學(xué)架構(gòu)
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202111298831.8 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN113741098B | 公開（公告）日 | 2022-03-01 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN113741098B | 申請(qǐng)公布日 | 2022-03-01 |
| 分類號(hào) | G02F1/13357（2006.01）I | 分類 | 光學(xué); |
| 發(fā)明人 | 晏?hào)|;張錫強(qiáng) | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 拓米（成都）應(yīng)用技術(shù)研究院有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 成都九鼎天元知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 劉小彬 |
| 地址 | 610000四川省成都市郫都區(qū)德源鎮(zhèn)（菁蓉鎮(zhèn)）創(chuàng)客公園二期7號(hào)樓 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開一種UTG?QD型MINI?LED板及其應(yīng)用、制備方法和光學(xué)架構(gòu)，解決現(xiàn)有光學(xué)利用率低的技術(shù)問題。UTG?QD型MINI?LED板包括UTG基板、QD量子點(diǎn)層和銅層，應(yīng)用于制備光擴(kuò)散板中。制備方法為在UTG基板入光面鍍銅層及涂布二氧化鈦粒子層，出光面構(gòu)建微米級(jí)凹槽后涂布QD量子點(diǎn)層和擴(kuò)散層，在擴(kuò)散層粘合透明阻隔膜層或貼覆UTG層，銅層和二氧化鈦粒子層上開孔。光學(xué)架構(gòu)是在UTG?QD型MINI?LED板上貼覆增光膜層和擴(kuò)散膜層，用鎖合件鎖合成光學(xué)架構(gòu)。本發(fā)明可有效提高光線利用率，同時(shí)還能提升QD量子點(diǎn)的附著力和發(fā)光效率。 |
