基于NTA的IMAC填料及其制備方法和應(yīng)用

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201811609279.8 申請日 -
公開（公告）號 CN109663384B 公開（公告）日 2021-05-11
申請公布號 CN109663384B 申請公布日 2021-05-11
分類號 B01D15/08;C07K1/22 分類 一般的物理或化學(xué)的方法或裝置;
發(fā)明人 呂小林;丁忠 申請（專利權(quán)）人 蘇州賽分科技股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 代理人 唐清凱
地址 215323 江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)集賢街11號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種基于NTA的IMAC填料及其制備方法和應(yīng)用。該制備方法包括如下步驟：提供一種基質(zhì)；在所述基質(zhì)的表面構(gòu)建醛基，得到表面具有醛基的基質(zhì)；將醛基轉(zhuǎn)化為α?氨基羧酸，得到表面具有α?氨基羧酸的基質(zhì)；在所述表面具有α?氨基羧酸的基質(zhì)的表面構(gòu)建NTA基團(tuán)，得到表面具有NTA基團(tuán)的基質(zhì)；以及將NTA基團(tuán)與過渡金屬離子螯合，得到基于NTA的IMAC填料。上述基于NTA的IMAC填料的制備方法，避免使用高成本原料，而且制備工藝清潔，純化過程簡單。