一種PECVD沉積腔支撐裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201921969081.0 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN212247205U | 公開(kāi)（公告）日 | 2020-12-29 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN212247205U | 申請(qǐng)公布日 | 2020-12-29 |
| 分類(lèi)號(hào) | C23C16/50 | 分類(lèi) | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 陳金元 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 理想萬(wàn)里暉真空裝備（泰興）有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 蘇州國(guó)卓知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 理想萬(wàn)里暉真空裝備（泰興）有限公司 |
| 地址 | 225400 江蘇省泰州市泰興高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開(kāi)發(fā)區(qū)環(huán)溪路北側(cè) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種PECVD沉積腔支撐裝置，包括：等離子體外殼；三通道氣體流量計(jì)外殼，所述三通道氣體流量計(jì)外殼設(shè)置在等離子體外殼的一端；真空泵外殼，所述真空泵外殼設(shè)置在三通道氣體流量計(jì)外殼的一端；管式爐外殼，所述管式爐外殼設(shè)置在三通道氣體流量計(jì)外殼的頂端；支撐塊，所述支撐塊的數(shù)量為十二個(gè)，每四個(gè)為一組，分別設(shè)置在所述等離子體外殼、三通道氣體流量計(jì)外殼和真空泵外殼的底端。該P(yáng)ECVD沉積腔支撐裝置，在工作前，將千斤頂支撐好，轉(zhuǎn)動(dòng)搖把，通過(guò)轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)將轱轆收回到支撐塊的內(nèi)腔里，再使千斤頂歸位，利用支撐塊進(jìn)行支撐；需要搬運(yùn)時(shí)，利用千斤頂將設(shè)備支起，反向轉(zhuǎn)動(dòng)搖把，將轱轆轉(zhuǎn)出支撐塊，即可搬運(yùn)，實(shí)用性強(qiáng)。 |
