用于磁控濺射工藝腔室的磁場分布均勻化裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201910883185.8 申請日 -
公開（公告）號 CN110911263B 公開（公告）日 2022-07-01
申請公布號 CN110911263B 申請公布日 2022-07-01
分類號 H01J37/34（2006.01）I;C23C14/35（2006.01）I;C23C14/54（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 侯悅民 申請（專利權(quán)）人 北京信息科技大學(xué)
代理機構(gòu) 北京金恒聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 代理人 -
地址 100192北京市海淀區(qū)清河小營東路12號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種用于磁控濺射工藝腔室的磁場分布均勻化裝置。柔性四桿機構(gòu)連桿上一組磁鐵以不同運動軌跡相對于柔性四桿機構(gòu)機架做往復(fù)運動、并隨同連桿機構(gòu)做旋轉(zhuǎn)運動，從而形成非周期或者弱周期變化的非輻射性磁場分布。根據(jù)本發(fā)明的磁場分布均勻化裝置，可以使磁場分布呈非周期性或弱周期性、非輻射狀分布，從而可以提高磁場分布均勻性，進而能夠提高靶材濺射均勻性和靶材的利用率。本發(fā)明利用柔性四桿機構(gòu)連桿曲線特性和凸輪機構(gòu)實現(xiàn)磁場分布均勻化，從而提高工藝腔室內(nèi)流場均勻性及濺射速率，提高流場的可控性。