一種用于制備鏑/鋱鍍層的磁控濺射鍍膜系統(tǒng)
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201920675757.9 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN210596244U | 公開(kāi)（公告）日 | 2020-05-22 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN210596244U | 申請(qǐng)公布日 | 2020-05-22 |
| 分類(lèi)號(hào) | C23C14/35;C23C14/16;C23C14/50;C23C14/58 | 分類(lèi) | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 王君 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 寧波賚晟新材料科技有限責(zé)任公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 合肥市長(zhǎng)遠(yuǎn)專(zhuān)利代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 段曉微 |
| 地址 | 315000 浙江省寧波市鎮(zhèn)海區(qū)莊市街道光明路189號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種用于制備鏑/鋱鍍層的磁控濺射鍍膜系統(tǒng)，系統(tǒng)使用的磁控濺射源具有管狀結(jié)構(gòu)特點(diǎn)，管狀磁控濺射源管壁外側(cè)布置有磁體且內(nèi)部鑲嵌有重稀土靶材，工件架安裝在端蓋上并可沿管狀磁控濺射源軸線(xiàn)轉(zhuǎn)動(dòng)；在管狀濺射源內(nèi)部形成鍍膜空間，由于磁控濺射放電和空心陰極放電耦合在一起，等離子體密度高，因此薄膜沉積速率遠(yuǎn)高于常規(guī)磁控濺射，同時(shí)由于管狀結(jié)構(gòu)特點(diǎn)，靶材濺出材料主要部分沉積在工件上，另外一部分則重新回到靶材表面，從而具有很高的靶材利用率，同時(shí)轉(zhuǎn)動(dòng)工件架上的工件沿管狀源的軸線(xiàn)轉(zhuǎn)動(dòng)，均勻接收濺出材料，并形成厚度分布均勻的鏑/鋱鍍層。 |
