一種電觸頭材料表面快速沉積銀鍍膜方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110275952.4 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN113151791A | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-07-23 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN113151791A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-07-23 |
| 分類(lèi)號(hào) | C23C14/35;C23C14/16;C23C14/02;C23C14/54;C23C14/58 | 分類(lèi) | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 王君 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 寧波賚晟新材料科技有限責(zé)任公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 合肥金律專(zhuān)利代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 段曉微 |
| 地址 | 315000 浙江省寧波市鎮(zhèn)海區(qū)莊市街道光明路189號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)了一種電觸頭材料表面快速沉積銀鍍膜方法，將電觸頭基體放置在管狀濺射源中部的濺射腔內(nèi)，所述濺射腔內(nèi)壁具有銀靶材層，將所述濺射腔進(jìn)行抽真空，然后通入工藝氣體到到預(yù)設(shè)反濺清洗氣壓值，并進(jìn)行反濺清洗；調(diào)整工藝氣體到濺射鍍膜氣壓值，通過(guò)對(duì)管狀濺射源和電觸頭基體之間施加濺射電壓，并對(duì)電觸頭基體和濺射源上下蓋之間施加偏壓，同時(shí)驅(qū)動(dòng)電觸頭基體旋轉(zhuǎn)，進(jìn)行偏壓濺射鍍膜；通過(guò)將電觸頭基體放在筒狀濺射源內(nèi)，使得電觸頭基體位于在等離子體放電區(qū)內(nèi)，提高沉積速率和靶材利用率，同時(shí)濺射時(shí)對(duì)電觸頭基體施加負(fù)偏壓，有效引導(dǎo)等離子放電區(qū)內(nèi)離子轟擊電觸頭基體和銀鍍層，達(dá)到有效提高鍍層致密性和鍍層結(jié)合力的目的。 |
