一種柱狀靶材水冷旋轉(zhuǎn)單元
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202210214204.X | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN114717523A | 公開(公告)日 | 2022-07-08 |
| 申請公布號 | CN114717523A | 申請公布日 | 2022-07-08 |
| 分類號 | C23C14/34(2006.01)I;F25D1/02(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 周磊;竇沛靜;丁媛 | 申請(專利權(quán))人 | 四川艾龐機械科技有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 廣州嘉權(quán)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 | 代理人 | - |
| 地址 | 629000四川省遂寧市高新區(qū)云錦路8號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種柱狀靶材水冷旋轉(zhuǎn)單元,涉及靶材冷卻設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,能夠在為柱狀靶材提供旋轉(zhuǎn)驅(qū)動以及供電的同時,還能夠保證冷卻效果。一種柱狀靶材水冷旋轉(zhuǎn)單元包括殼體、水冷單元、旋轉(zhuǎn)驅(qū)動單元以及通電單元。水冷單元可轉(zhuǎn)動地設(shè)置在殼體中。靶材設(shè)置在水冷單元端部。旋轉(zhuǎn)驅(qū)動單元設(shè)置在水冷單元上。旋轉(zhuǎn)驅(qū)動單元用于驅(qū)動水冷單元轉(zhuǎn)動進而帶動靶材轉(zhuǎn)動。通電單元設(shè)置在殼體上并與水冷單元電連接。水冷單元在旋轉(zhuǎn)驅(qū)動單元的驅(qū)動下,可以帶動靶材旋轉(zhuǎn)的同時冷卻靶材。通電單元可以在接通水冷單元,為靶材通電。同時通過冷卻單元與靶材的充分接觸,使得靶材的散熱面積增加,加強散熱效果。 |





