一種基于PD SOI 的二極管輔助觸發(fā)ESD 保護(hù)電路
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN201310109113.0 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN103178058A | 公開(公告)日 | 2013-06-26 |
| 申請公布號 | CN103178058A | 申請公布日 | 2013-06-26 |
| 分類號 | H01L27/02(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 王忠芳;劉存生;蔣軼虎;高利軍;楊博;周鳳 | 申請(專利權(quán))人 | 西安西岳電子技術(shù)有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 西安通大專利代理有限責(zé)任公司 | 代理人 | 汪人和 |
| 地址 | 710054 陜西省西安市太乙路189號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種基于PD?SOI的二極管輔助觸發(fā)ESD保護(hù)電路,在該結(jié)構(gòu)中,柵極采用條形柵結(jié)構(gòu),漏區(qū)和源區(qū)采用漏深源淺非對稱結(jié)構(gòu),在漏端一側(cè),除了進(jìn)行深N+注入外,還在漏端邊側(cè)和中間進(jìn)行P+注入,以形成P+N+二極管;在源端,同樣采取N+和P+間隔注入的方式,但源端的P+注入不應(yīng)太寬,且應(yīng)該和漏端相對應(yīng)的N+的中間位置對齊。源端的N+和P+無需通過SAB層覆蓋,在進(jìn)行硅化物工藝時可以短接在一起以形成體接觸。該結(jié)構(gòu)具有可調(diào)開啟電壓、抗輻照能力強(qiáng)、導(dǎo)通均勻性好和消除邊緣漏電等優(yōu)點,可以有效地應(yīng)用于輸入PAD、輸出PAD以及電源和地之間的ESD保護(hù)。 |





