過孔刻蝕方法和過孔刻蝕裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202111493350.2 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN114267587A 公開（公告）日 2022-04-01
申請(qǐng)公布號(hào) CN114267587A 申請(qǐng)公布日 2022-04-01
分類號(hào) H01L21/311（2006.01）I;H01L21/66（2006.01）I;H01L21/67（2006.01）I;H01L21/77（2017.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 梅運(yùn)柱;賈馬龍;常李陽(yáng);張子曰;曹志文;李偉華;李陽(yáng) 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 合肥維信諾科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京華進(jìn)京聯(lián)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 吳娜娜
地址 230000安徽省合肥市新站區(qū)魏武路與新蚌埠路交口西南角
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請(qǐng)涉及一種過孔刻蝕方法和過孔刻蝕裝置，先由第二膜層朝向基板的方向，在第二膜層的表面刻蝕過孔。當(dāng)刻蝕過孔產(chǎn)生的生成物的光強(qiáng)變化率到第一預(yù)設(shè)值時(shí)，說明刻蝕過孔的位置到達(dá)第一膜層和第二膜層的界面。然后繼續(xù)刻蝕第一膜層形成過孔。在第二膜層刻蝕過孔時(shí)，通過監(jiān)測(cè)過孔產(chǎn)生的生成物的光強(qiáng)變化率能夠大致判斷過孔的刻蝕位置。通過生成物的光強(qiáng)變化率判斷過孔刻蝕的位置可能會(huì)有監(jiān)測(cè)延遲帶來的誤差。由于第一膜層厚度已知，第一膜層的材料材質(zhì)和密度相對(duì)均勻，因此刻蝕第一膜層的速率容易控制。在刻蝕過孔的最后階段，通過控制刻蝕時(shí)間控制過孔在第一膜層的刻蝕的深度，能夠提高刻蝕第一過孔的終點(diǎn)位置的精度。