一種用于管狀靶材的真空燒結(jié)系統(tǒng)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202210265521.4 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)(公告)號(hào) CN114623679A 公開(kāi)(公告)日 2022-06-14
申請(qǐng)公布號(hào) CN114623679A 申請(qǐng)公布日 2022-06-14
分類(lèi)號(hào) F27B5/04(2006.01)I;F27B5/14(2006.01)I;F27B5/18(2006.01)I;F27D7/06(2006.01)I 分類(lèi) 爐;窯;烘烤爐;蒸餾爐〔4〕;
發(fā)明人 唐智勇 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人 株洲火炬安泰新材料有限公司
代理機(jī)構(gòu) 湖南正則奇美專(zhuān)利代理事務(wù)所(普通合伙) 代理人 -
地址 410000湖南省株洲市天元區(qū)天易科技城自主創(chuàng)業(yè)園一期A(yíng)5棟
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種用于管狀靶材的真空燒結(jié)系統(tǒng),第一壓蓋設(shè)置有第一模具,第二壓蓋設(shè)置有第二模具,第一模具與第二模具配合用于成型,第一保溫殼與第二保溫殼形成的加熱腔內(nèi)設(shè)置有加熱裝置;第一壓蓋設(shè)置在機(jī)架上,第二壓蓋固定連接在加壓裝置的輸出端,加壓裝置固定連接在機(jī)架上;加壓裝置包括恒壓裝置和反饋裝置,恒壓裝置用于提供穩(wěn)定壓力,反饋裝置用于提供附加壓力;通過(guò)反饋系統(tǒng)以位置為依據(jù),當(dāng)?shù)谝荒>咧饾u靠近第二模具時(shí),反饋裝置提供的附加壓力逐漸變大,使素坯所受壓力在燒結(jié)過(guò)程為逐漸變大,較小的初始力避免過(guò)早得出較大的晶粒,靶材燒結(jié)過(guò)程中各部位的累積受力的差異縮小,從而使各部位的晶粒的大小趨于均勻。