一種用于化學機械拋光液的復合磨料
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN201120475848.1 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN202322710U | 公開(公告)日 | 2012-07-11 |
| 申請公布號 | CN202322710U | 申請公布日 | 2012-07-11 |
| 分類號 | C09K3/14(2006.01)I;C08J5/14(2006.01)I;C09G1/02(2006.01)I | 分類 | 染料;涂料;拋光劑;天然樹脂;黏合劑;其他類目不包含的組合物;其他類目不包含的材料的應用; |
| 發(fā)明人 | 張磊;鄒宇琦;曹鳳凱;劉獻偉 | 申請(專利權(quán))人 | 上海施科特光電材料有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 上海碩力知識產(chǎn)權(quán)代理事務所 | 代理人 | 上海施科特光電材料有限公司 |
| 地址 | 201403 上海市奉賢區(qū)航南公路3958號4幢 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本實用新型涉及一種用于化學機械拋光液的復合磨料,該復合磨料包含聚苯乙烯內(nèi)核以及包覆在所述聚苯乙烯內(nèi)核外的無定型二氧化硅殼層,所述復合磨料的粒徑為100-500nm。該復合磨料可以應用于化學機械拋光液,尤其是藍寶石襯底材料的拋光液,有助于提高拋光速率以及減少拋光后的表面粗糙度。 |





