燙印膜
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202020646818.1 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN212147776U | 公開(公告)日 | 2020-12-15 |
| 申請公布號 | CN212147776U | 申請公布日 | 2020-12-15 |
| 分類號 | B32B3/30(2006.01)I | 分類 | 層狀產(chǎn)品; |
| 發(fā)明人 | 朱昊樞;葉瑞;孫營春;左志成;陳林森;朱志堅 | 申請(專利權)人 | 蘇大維格(鹽城)光電科技有限公司 |
| 代理機構 | 上海波拓知識產(chǎn)權代理有限公司 | 代理人 | 蘇州蘇大維格科技集團股份有限公司;蘇大維格(鹽城)光電科技有限公司 |
| 地址 | 215123江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)新昌路68號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 一種燙印膜,依次包括基膜層、信息介質(zhì)層、離型層、半透半反膜層、透明介質(zhì)層和反射層,信息介質(zhì)層上設有呈動態(tài)鐳射效果的第一微納結構,離型層靠近信息介質(zhì)層的一面上設有與第一微納結構相對應的第二微納結構,第一微納結構與第二微納結構配合。本實用新型的燙印膜能實現(xiàn)動態(tài)變化和光變色效果,并且不易仿造,防偽性強。?? |





