一種用于ArF浸沒式光刻膠頂層涂層的組合物及其制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111631540.6 申請日 -
公開（公告）號 CN114153124A 公開（公告）日 2022-03-08
申請公布號 CN114153124A 申請公布日 2022-03-08
分類號 G03F7/004（2006.01）I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 付海超;趙洪祥;劉文昭;鄒廣輝;馬樂 申請（專利權(quán)）人 中節(jié)能萬潤股份有限公司
代理機構(gòu) 北京中創(chuàng)博騰知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 李艷艷
地址 264006山東省煙臺市經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)五指山路11號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種用于ArF浸沒式光刻膠頂層涂層的組合物，所述的組合物包括聚合物I、聚合物II、光致產(chǎn)酸劑和電子級溶劑，所述的聚合物I和聚合物II結(jié)構(gòu)式如下：a選自40?70％，b選自1?10％，c選自30?60％；x選自1?10％，y選自1?10％，z選自80～95％；聚合物I和聚合物II的分子量選自1000?30000Da，分子量分散系數(shù)選自1.0?4.0。所述頂層涂層組合物具有較高的后退角，可減少光致產(chǎn)酸劑在浸沒流體中的瀝出。