光學(xué)顯示裝置的制作方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110768895.3 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN113488603A 公開(kāi)（公告）日 2021-10-08
申請(qǐng)公布號(hào) CN113488603A 申請(qǐng)公布日 2021-10-08
分類號(hào) H01L51/56（2006.01）I;H01L51/52（2006.01）I;H01L27/32（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 施宏欣 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 業(yè)成科技（成都）有限公司
代理機(jī)構(gòu) 成都希盛知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 楊冬梅;張行知
地址 611730四川省成都市高新區(qū)西區(qū)合作路689號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)一種光學(xué)顯示裝置的制作方法，首先以物理氣相沉積法于一顯示層上正向形成一第一無(wú)機(jī)氧化物膜，接著以物理氣相沉積法于第一無(wú)機(jī)氧化物膜上斜向形成至少一層第二無(wú)機(jī)氧化物膜，再來(lái)以物理氣相沉積法于第二無(wú)機(jī)氧化物膜上正向形成一第三無(wú)機(jī)氧化物膜。最后，以物理氣相沉積法于第三無(wú)機(jī)氧化物膜上依序斜向形成至少一層第四無(wú)機(jī)氧化物膜與至少一層第五無(wú)機(jī)氧化物膜，以于顯示層上形成圓偏光層。由于圓偏光層是以物理氣相沉積層所形成，所以不受應(yīng)力累積的影響，當(dāng)設(shè)于可撓性基板上時(shí)，不須考慮多重彎曲對(duì)稱軸的影響。