具有抗衰層的發(fā)光二極管
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN201520930868.1 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN205231094U | 公開(公告)日 | 2016-05-11 |
| 申請公布號 | CN205231094U | 申請公布日 | 2016-05-11 |
| 分類號 | H01L33/02(2010.01)I;H01L33/10(2010.01)I;H01L33/30(2010.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 王曉暉;劉佩;張業(yè)民;陳宇;張榮勤;宋京 | 申請(專利權(quán))人 | 天津中環(huán)新光科技有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 天津三元專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 | 代理人 | 天津中環(huán)新光科技有限公司 |
| 地址 | 300385 天津市西青區(qū)津港公路微電子工業(yè)區(qū)畢升道2號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 一種具有抗衰層的發(fā)光二極管,設(shè)有:一砷化鎵襯底,該砷化鎵襯底上設(shè)有分布布拉格反射器,分布布拉格反射器上設(shè)有n型砷磷化鋁銦抗衰層,n型砷磷化鋁銦抗衰層上設(shè)有n型限制層,n型限制層上設(shè)有構(gòu)成發(fā)光二極管的核心發(fā)光區(qū)域的多量子阱有源區(qū),多量子阱有源區(qū)上設(shè)有p型限制層;p型限制層上設(shè)有P型窗口層、P型窗口層上設(shè)有P型蓋帽層,通過上述層結(jié)構(gòu)的相互連接構(gòu)成一發(fā)光二極管結(jié)構(gòu)。本實用新型通過在分布布拉格反射器與n型磷化鋁銦限制層之間插入一層經(jīng)過設(shè)計的砷磷化鋁銦抗衰層,不僅可以降低載流子受到該界面處界面散射的幾率,增加了載流子注入效率,有效地降低了生長于其上的量子阱有源區(qū)的負(fù)面效應(yīng):而且,還可以進(jìn)一步降低發(fā)光二極管的壽命衰減。 |





