核殼結(jié)構(gòu)量子點、其制備方法以及應(yīng)用

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201911278118.X 申請日 -
公開（公告）號 CN112980428A 公開（公告）日 2021-06-18
申請公布號 CN112980428A 申請公布日 2021-06-18
分類號 C09K11/02;C09K11/88;B82Y20/00;B82Y30/00;B82Y40/00;H01L31/0352;H01L51/50 分類 染料；涂料；拋光劑；天然樹脂；黏合劑；其他類目不包含的組合物；其他類目不包含的材料的應(yīng)用;
發(fā)明人 高靜;謝陽臘;喬培勝;劉俊娜;蘇葉華 申請（專利權(quán)）人 浙江納晶科技有限公司
代理機構(gòu) 寧波聚禾專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 糜婧;顧賽喜
地址 324004 浙江省衢州市柯城區(qū)高新片區(qū)海棠路12號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請公開了核殼結(jié)構(gòu)量子點、其制備方法以及應(yīng)用。其中，核殼結(jié)構(gòu)量子點包括第一核殼量子點，其包括量子點核以及包覆在量子點核外的至少兩內(nèi)殼層，第一核殼量子點各層材料的禁帶寬度沿徑向由內(nèi)向外依次增大；以及直接包覆在第一核殼量子點外的第一外殼層，第一外殼層材料的禁帶寬度小于第一核殼量子點最外層材料的禁帶寬度。第一核殼量子點的禁帶寬度沿徑向由內(nèi)向外依次增大，也即殼材料的禁帶寬度大于核材料的禁帶寬度，電子和空穴被禁錮在核中，殼材料物理地把光學(xué)活性中心核與周圍介質(zhì)分開，可以提高量子點的抗水、氧穩(wěn)定性；此外，在第一核殼量子點外生長了禁帶寬度小的第一外殼層，可以有效抵抗光漂白，從而提升量子效率。