一種防止形成濕氣渦流的化學(xué)氣相沉積蒸鍍設(shè)備
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN202020664903.0 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN212051642U | 公開（公告）日 | 2020-12-01 |
| 申請公布號 | CN212051642U | 申請公布日 | 2020-12-01 |
| 分類號 | C23C16/54(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 段明浩;張哲;白新愿 | 申請（專利權(quán)）人 | 西安瀚維光電科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 西安弘理專利事務(wù)所 | 代理人 | 韓玙 |
| 地址 | 710119陜西省西安市高新區(qū)上林苑一路15號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型公開了一種防止形成濕氣渦流的化學(xué)氣相沉積蒸鍍設(shè)備，包括依次連接的進(jìn)料門、材料蒸發(fā)池、材料裂解池、鍍膜腔體，鍍膜腔體依次通過管道連接冷阱、機(jī)械真空泵，鍍膜腔體與冷阱之間的管道上連接慢開截止閥；在鍍膜腔體和冷阱之間增加了可控慢開截止閥，將鍍膜腔體抽真空的初始抽速降低，從而有效地避免了鍍膜腔體壓力陡然下降而造成的濕氣渦旋，進(jìn)而能夠避免被鍍濕度敏感器件被濕氣渦流損壞的問題；通過真空計(jì)的反饋信號閉環(huán)控制鍍膜腔體抽真空和破真空的整個(gè)過程，從而有利于實(shí)現(xiàn)各個(gè)階段真空度和抽速的自動(dòng)化控制，管道上纏繞的加熱帶控制管道溫度，有效地避免出現(xiàn)抽真空通道被蒸鍍材料堵塞的現(xiàn)象。?? |
