微渦流絮凝設備及絮凝系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202020603337.2 申請日 -
公開（公告）號 CN213294809U 公開（公告）日 2021-05-28
申請公布號 CN213294809U 申請公布日 2021-05-28
分類號 C02F1/52(2006.01)I 分類 -
發(fā)明人 蔣劍虹;黃茂林;陳蕃;吳玉華;唐清暢;邱順凡;羅松柏;樊佳;李漫 申請（專利權(quán)）人 中國機械設備工程股份有限公司
代理機構(gòu) 長沙智嶸專利代理事務所（普通合伙） 代理人 劉宏
地址 100055北京市西城區(qū)廣安門外大街178號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種微渦流絮凝設備及絮凝系統(tǒng)，微渦流絮凝設備包括框架以及安裝于框架內(nèi)的微渦流板，微渦流板上開設有若干個多邊形孔，使水流在多邊形孔的孔口處多次交錯后形成旋渦，各微渦流板傾斜設置且多塊微渦流板間隔布設于框架內(nèi)，使水流在微渦流板之間多次改變方向，從而增加了水流中顆粒的碰撞率。本實用新型的微渦流絮凝設備，通過在微渦流板上開設有若干個多邊形孔，使水流在多邊形孔的孔口處多次交錯，相繼收縮和擴大，從而形成漩渦，造成顆粒碰撞，形成良好的絮凝條件，多塊微渦流板傾斜間隔布設，一部分水流先流到微渦流板上受到阻力而多次改變方向，進一步地增加了水流中顆粒的碰撞率，同時便于利用重力排泥。??