一種偏光片保護(hù)膜用基膜制備工藝及設(shè)備
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202110368740.0 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN113071122A | 公開(公告)日 | 2021-07-06 |
| 申請公布號 | CN113071122A | 申請公布日 | 2021-07-06 |
| 分類號 | B29D7/01(2006.01)I | 分類 | 塑料的加工;一般處于塑性狀態(tài)物質(zhì)的加工; |
| 發(fā)明人 | 李剛;程凡寶;孫艷斌;楊彪;李明勇;李宇航;劉小東;楊建鵬;李彬彬;孫楠楠 | 申請(專利權(quán))人 | 山東勝通光學(xué)材料科技有限公司 |
| 代理機構(gòu) | - | 代理人 | - |
| 地址 | 257000山東省東營市墾利經(jīng)濟開發(fā)區(qū)園興路169號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明涉及一種偏光片保護(hù)膜用基膜制備工藝及設(shè)備,包括模頭、輸料管線、計量擠出機、過濾器、混合容器、直流電機、電子元件、控制系統(tǒng)、計量泵和聚酯鑄片。該一種偏光片保護(hù)膜用基膜制備工藝及設(shè)備,其生產(chǎn)出來的基膜產(chǎn)品具有優(yōu)良的光學(xué)表觀性能,保護(hù)膜表面無異物、白點、蹭傷、折痕等缺陷,方便在不去除保護(hù)膜的情況下進(jìn)行偏光片表觀測試,同時防止各種缺陷對TAC膜的損傷和污染,耐候性及持粘力穩(wěn)定性,經(jīng)數(shù)日或更久剝離力增長不明顯,易于撕去且被保護(hù)表面無殘膠,無留影,保護(hù)膜對被保護(hù)表面具有良好的粘附性能,在材料搬運或加工過程中,保護(hù)膜不會起翹,脫落,抗靜電處理,帶電量低,防止靜電吸附灰塵,污染偏光片表面。 |





