一種鈮酸鋰薄膜波導(dǎo)的濕法刻蝕方法及鈮酸鋰薄膜波導(dǎo)
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | 202011106942X | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN112269225A | 公開（公告）日 | 2021-01-26 |
| 申請公布號 | CN112269225A | 申請公布日 | 2021-01-26 |
| 分類號 | G02B6/136(2006.01)I; | 分類 | 光學(xué); |
| 發(fā)明人 | 尹志軍;崔國新;葉志霖;許志城 | 申請（專利權(quán)）人 | 南京南智先進光電集成技術(shù)研究院有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 北京弘權(quán)知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 逯長明;許偉群 |
| 地址 | 210000江蘇省南京市江北新區(qū)研創(chuàng)園團結(jié)路99號孵鷹大廈690室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申請?zhí)峁┮环N鈮酸鋰薄膜波導(dǎo)的濕法刻蝕方法及鈮酸鋰薄膜波導(dǎo)。所述方法包括：在鈮酸鋰薄膜樣品中的鈮酸鋰層表面正疇區(qū)域上制備具有預(yù)設(shè)刻蝕形狀的金屬掩膜后，將具備金屬掩膜的待極化鈮酸鋰薄膜樣品接入極化電路，對金屬掩膜覆蓋區(qū)域的鈮酸鋰進行疇翻轉(zhuǎn)，使得金屬掩膜覆蓋區(qū)域由正疇翻轉(zhuǎn)為負疇，利用預(yù)設(shè)夾具固定住疇翻轉(zhuǎn)后的鈮酸鋰薄膜樣品，并去除表面的金屬掩膜后，利用刻蝕溶液對疇翻轉(zhuǎn)后樣品的表面區(qū)域進行預(yù)設(shè)時長的刻蝕，得到鈮酸鋰薄膜波導(dǎo)。整個過程利用正負疇的腐蝕速度差異制備鈮酸鋰薄膜波導(dǎo)，可以較好地控制刻蝕側(cè)壁的寬度和質(zhì)量，制備的波導(dǎo)刻蝕側(cè)壁較為光滑，波導(dǎo)損耗較低。?? |
