鈮酸鋰薄膜超晶格的制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202011060218.8 申請日 -
公開（公告）號 CN112195520A 公開（公告）日 2021-01-08
申請公布號 CN112195520A 申請公布日 2021-01-08
分類號 C30B33/04;C30B29/30;G02F1/355 分類 晶體生長〔3〕;
發(fā)明人 尹志軍;崔國新;葉志霖;許志城 申請（專利權(quán)）人 南京南智先進(jìn)光電集成技術(shù)研究院有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京弘權(quán)知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 南京南智先進(jìn)光電集成技術(shù)研究院有限公司
地址 210000 江蘇省南京市江北新區(qū)研創(chuàng)園團(tuán)結(jié)路99號孵鷹大廈690室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請?zhí)峁┮环N鈮酸鋰薄膜超晶格的制備方法，包括：1)制備套刻標(biāo)記；2)根據(jù)套刻標(biāo)記，在x切的鈮酸鋰薄膜表面制備周期性叉指電極結(jié)構(gòu)；3)在光刻好的叉指電極結(jié)構(gòu)上鍍金屬電極；4)去除光刻膠，得到周期性叉指電極；5)在一側(cè)叉指電極上接入電極正極，另一側(cè)叉指電極接地，施加電場，使得叉指電極之間疇翻轉(zhuǎn)，去除電極，得到第一周期性疇翻轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)；6)將套刻標(biāo)記向右平移一個周期的距離，重復(fù)步驟2)～5)，得到第二周期性疇翻轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)；7)重復(fù)執(zhí)行步驟6)，直至得到的所有疇翻轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)之間的間距相等，完成制備。采用前述的方案，采用多次套刻，多次電場極化，在x切的鈮酸鋰薄膜表面制備周期性的電極，制備出疇壁與z軸垂直的疇結(jié)構(gòu)。