一種激光成像曝光機提高臺面吸板真空度裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202022743278.1 申請日 -
公開（公告）號 CN213843754U 公開（公告）日 2021-07-30
申請公布號 CN213843754U 申請公布日 2021-07-30
分類號 G03F7/20（2006.01）I 分類 攝影術；電影術；利用了光波以外其他波的類似技術；電記錄術；全息攝影術〔4〕;
發(fā)明人 劉斌 申請（專利權）人 天津普林電路股份有限公司
代理機構 北京沁優(yōu)知識產權代理有限公司 代理人 李蓓蕾
地址 300000天津市濱海新區(qū)自貿試驗區(qū)（空港經濟區(qū)）航海路53號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型提供一種激光成像曝光機提高臺面吸板真空度裝置，包括粘接固定連接在曝光機臺面頂端的密封裝置，所述密封裝置用于密封住臺面上的真空孔，所述密封裝置包括若干阻氣墊片，各阻氣墊片之間為粘接連接，所述粘接連接使用膠帶粘接實現，所述阻氣墊片均為透明基片。本實用新型提高了激光成像曝光機真空度，防止出現曝光解析不良或對位偏位等問題。