反射幕布及超短焦正投影裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202021012908.1 申請(qǐng)日 -
公開(公告)號(hào) CN211956111U 公開(公告)日 2020-11-17
申請(qǐng)公布號(hào) CN211956111U 申請(qǐng)公布日 2020-11-17
分類號(hào) G03B21/60(2014.01)I;G03B21/602(2014.01)I 分類 攝影術(shù);電影術(shù);利用了光波以外其他波的類似技術(shù);電記錄術(shù);全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 葛明星 申請(qǐng)(專利權(quán))人 無錫視美樂科技股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 代理人 無錫視美樂科技股份有限公司
地址 214200江蘇省無錫市宜興經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)杏里路10號(hào)宜興光電產(chǎn)業(yè)園3幢101室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型提供了一種反射幕布及超短焦正投影裝置,涉及投影技術(shù)領(lǐng)域,本實(shí)用新型提供的反射幕布,包括:霧化層和基材,霧化層涂覆于基材的表面;霧化層具有霧度,且霧化層包括微透鏡。本實(shí)用新型提供的反射幕布,可以將入射光擴(kuò)散,并將反射光聚集以提高亮度和對(duì)比度,霧化層具有防眩光作用,且可以增強(qiáng)反射幕布表面的耐刮性能。??