相位調(diào)制改變PECVD放電腔內(nèi)電磁場(chǎng)分布的方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201811170053.2 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN111020533B | 公開(kāi)（公告）日 | 2022-02-18 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN111020533B | 申請(qǐng)公布日 | 2022-02-18 |
| 分類(lèi)號(hào) | C23C16/505（2006.01）I | 分類(lèi) | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 劉傳生;陳金元 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 理想萬(wàn)里暉半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
| 地址 | 201620上海市松江區(qū)思賢路3255號(hào)3幢403室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 在具有射頻電源的PECVD放電腔內(nèi)，通過(guò)相位調(diào)制器將電極板上的不同電源饋入點(diǎn)間設(shè)置不同的相位，并在等離子體響應(yīng)時(shí)間內(nèi)，改變相位差以及此相位差的持續(xù)時(shí)間從而改善等離子體所響應(yīng)的電磁場(chǎng)的均勻性。 |
